突破极限 飞利浦成功实验12XBD-R刻录
在近日于日本召开的ISOM 2006(International Symposium on Optical Memory,国际光存储器研讨会)上,飞利浦公司的研究员(R. G. J. A. Hesen、J. H. G. Jaegers、A. P. G. E. Janssen、 J.Rijpers、P. R. V. Sonneville、J. J. H. B. Schleipen )宣布了他们的在基于铜-硅(Cu:Si)记录层的BD-R光盘上进行10与12倍速刻录试验的成果。
光盘的刻录速度取决于刻录设备和光盘本身,光盘的物理参数也是最写入速度的限制,其中包括在调整旋转时的噪音等级,但最重要的物理限制则是光盘的最高转速。对于标准的12cm直径的光盘(CD/DVD)来说,目前能在半高型光驱中实现的最高转速是10800rpm,而BD光盘在一倍速(CLV方式)时,最高转速是1955rpm(内圈),最低821rpm(外圈),所以早前就有技术分析认为BD理论上最高的刻录速度是12X(CAV,HD DVD的最高刻录速度是8X)。当然,速度的提升也离不开光盘所用材料性能的进步,以及刻录设备的更高控制精度与更强大的激光功率。TDK早前曾经宣布实现了6X BD-R刻录速度。
飞利浦的研究人员成功地演示了7X(4X-7X CAV)以及10X和12X的刻录,不过试验用的BD-R光盘不是使用相变记录层或是染料记录层,而是采用了新的Cu:Si双分子薄膜记录层。TDK是第一家在BD-R光盘上采用这种记录层的厂商,当激光照射到记录层时,Cu:Si双分子薄膜将融合,在反射率上与未经照射的区域形成反差,从而形成一个记录信息点(Recorded Mark),但很大的挑战是,如果为非常好的写入策略来定制每一分子层的厚度。
Cu:Si双分子薄膜记录原理:当高温的激光照射到记录层时,硅与铜合金融化并相融合在一起,当激光经过后,冷却下来,就形成了硅铜合金,也就成为了一个信息坑。
飞利浦的研究员表示,通过他们对Cu:Si记录层的实验,已经可以获得足够的刻录质量(jitter小于7%)。
能达到12X的刻录速度,意味着刻录一张单层BD-R光盘(25GB)只需11分钟(现有的2X刻录需要约45分钟),双层光盘则为22分钟。不过,现在比较现实的BD-R刻录速度还是低于7X。要想达到12X的速度,复杂程度将大大提高,这不光是光盘本身的事情,还将对刻录设备的伺服系统与系统性能有很高的要求(12X时的数据传输率将达54MB/s,系统能否稳定的提供如此高的数据传输率,肯定是个问题)。飞利浦的研究员表示,他们将尽快解决所有相关的问题。