CPU?闪存? 谁走在半导体制作工艺前列

    [泡泡网CPU频道7月29日] 在摩尔定律推动下，工艺技术的缩微没有停止，基本上每两年一个台阶，今年已可达到32nm工艺(注释，通常指微处理器的量产还要推迟几个季度) ，但抛开CPU产品，其实走在缩微制程最前面的是NAND闪存，早在去年就实现34nm的32G NAND闪存量产。

    目前32nm工艺制程采用193nm浸入式光刻机，尽管工艺复杂，成本高，大多还是要用双重图形曝光技术。估计下一个22nm接点时，光学光刻方法可能已走到尽头，EUV、电子束直接曝光等都有可能浮现。但是摩尔定律即将终止，技术已近极限，所以经济上的矛盾会逐渐突显。■